温控系统-温度均一化解决方案

升温均衡、精度更高、控制效果更佳

温度均一化控制是通过对多个温区的升温速度的控制，从而制止温度的超和谐颠簸，可应用于锂电池真空烤箱、晶圆加工、光伏烧结炉、光伏烘干炉、注塑成型、压缩成型、挤出成型、玻璃热弯等行业。

温度作为生产工艺中的重要指标，若升温速度纷歧致，将直接导致温度泛起超和谐颠簸，从而影响到产物的加工工艺，导致良品率下降。

温度均一化控制技术通过对多个温区的升温速度进行控制，有效抑制相邻通道间的相互滋扰，同时能够保证整个加热历程中，各温区间的温差保持稳定，实现对被控工具的均匀加热，到达提高产物的加工质量、降低能耗的效果。

温控系统一温度均一化解决方案共分为两部门，包罗有均一化解耦与优化部门（工艺层）、PID控制部门（控制层）。PID控制部门轻松保证加工速度；均一化解耦与优化部门可确保多温区耦相助用下，依旧实现包罗过渡响应在内的温区耦合均一性。

整个解决方案接纳模块化编程，将均一化工艺层与PID控制层进行模块化，可将工艺层灵活搭配RM新时代官方网站PID指令，满足差异场景的客户需求；整个历程调试时间短，仅需简朴设定即可实现均一化参数，轻松解决加热不均匀问题，实现每个温区升温速度的统一。

升温均衡，对多个温区进行同步控制，实现差异温区的均匀加热

抑制温差，差异温区之间的差值是传统PID方案的1/5

低超调量，差异温区同时到达温度目标值，超调量更小；

低稳态误差，在恒温阶段的温度颠簸是传统PID方案的1/5，控制效果更佳

高精度温控，收罗精度：0.3%，收罗分辨率：0.01℃

易调试，接纳模块化封装的指令，配合专用调试软件，调试越发便捷